La Academia China de Ciencias est\u00e1 terminando de construir un acelerador de part\u00edculas para fabricar chips avanzados<\/p>\n
Las filtraciones aseguran que Huawei ya est\u00e1 probando en Dongguan el primer equipo de litograf\u00eda UVE chino<\/p>\n
China no tiene otra opci\u00f3n. O desarrolla su propia tecnolog\u00eda de fabricaci\u00f3n de semiconductores de vanguardia o perder\u00e1 su pugna por la supremac\u00eda mundial con EEUU. Sin chips avanzados 100% chinos su capacidad militar, el desarrollo de sus modelos de inteligencia artificial (IA) y la competitividad de sus empresas de tecnolog\u00eda se resentir\u00e1n a medio plazo. Huawei y SMIC est\u00e1n fabricando circuitos integrados avanzados, pero emplean m\u00e1quinas de la empresa neerlandesa ASML y una tecnolog\u00eda conocida como multiple patterning que compromete su competitividad.<\/p>\n
Este escenario ha provocado que el Gobierno chino respalde con subvenciones muy jugosas a las compa\u00f1\u00edas que tienen la capacidad de desarrollar equipos de fotolitograf\u00eda de vanguardia, como SiCarrier, Shanghai Yuliangsheng, Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), Huawei o SMIC. El tiempo juega en contra de este pa\u00eds asi\u00e1tico. Cuanto m\u00e1s tarde en tener sus propias m\u00e1quinas de litograf\u00eda de ultravioleta extremo (UVE), que son las que se utilizan para fabricar chips de muy alta integraci\u00f3n, m\u00e1s retrasado estar\u00e1 frente a EEUU y sus aliados.<\/p>\n
2026 ser\u00e1 un a\u00f1o crucial para China en el \u00e1mbito de los chips:<\/p>\n
La Academia China de Ciencias est\u00e1 terminando el que sin duda es el proyecto m\u00e1s ambicioso de cuantos est\u00e1 desarrollando la industria china de los semiconductores. Gracias a este plan la naci\u00f3n liderada por Xi Jinping est\u00e1 a punto de alcanzar un \u00abmomento DeepSeek\u00bb en el \u00e1mbito de la industria de los circuitos integrados. Esto significa, sencillamente, que se est\u00e1 preparando para llegar a una disrupci\u00f3n que tiene el potencial de colocar a este pa\u00eds asi\u00e1tico a la misma altura de EEUU, Taiw\u00e1n o Corea del Sur.<\/p>\n
Sin embargo, la estrategia de China para producir chips de vanguardia es muy diferente a la que hasta ahora han utilizado sus rivales. Cada una de las m\u00e1quinas UVE de ASML incorpora su propia fuente de luz ultravioleta, pero la Academia China de Ciencias persigue generar esta radiaci\u00f3n tan importante para producir chips avanzados utilizando un sincrotr\u00f3n, que no es otra cosa que un acelerador de part\u00edculas circular que se utiliza para analizar a nivel at\u00f3mico las propiedades de la materia, como diversos tipos de materiales, o, incluso, de las prote\u00ednas. Se llama HEPS (High Energy Photon Source o Fuente de Fotones de Alta Energ\u00eda), est\u00e1 en Pek\u00edn y podemos verlo en la fotograf\u00eda de portada de este art\u00edculo.<\/p>\n
Un apunte importante antes de seguir adelante: la luz ultravioleta (UV) es la responsable de trasladar el patr\u00f3n geom\u00e9trico que contiene el dise\u00f1o de los chips hasta la oblea de silicio. Esto significa, a grandes rasgos, que la luz UVE tiene la capacidad de hacer posible la fabricaci\u00f3n de circuitos integrados con una mayor resoluci\u00f3n que la luz de ultravioleta profundo (UVP) que utilizan las m\u00e1quinas de litograf\u00eda de anterior generaci\u00f3n que China tiene en sus manos. Y una mayor resoluci\u00f3n en la pr\u00e1ctica implica que es posible producir semiconductores con m\u00e1s transistores, y, por tanto, m\u00e1s sofisticados y potentes.<\/p>\n
A priori podemos pensar que un acelerador de part\u00edculas no tiene nada que ver con la fabricaci\u00f3n de circuitos integrados, pero estar\u00edamos pasando por alto algo muy importante: el sincrotr\u00f3n HEPS tiene la capacidad de producir luz UVE de alta potencia. De hecho, es una fuente dise\u00f1ada para generar una gran cantidad de radiaci\u00f3n. El plan de China es colocar alrededor del acelerador de part\u00edculas varias plantas de fabricaci\u00f3n de semiconductores a las que el sincrotr\u00f3n entregar\u00e1 la luz UVE de la misma forma en que una central el\u00e9ctrica entrega la electricidad a sus clientes. As\u00ed de sencillo. Todav\u00eda no se ha filtrado la fecha en la que China planea poner en marcha esta megaf\u00e1brica de semiconductores de vanguardia, pero ya est\u00e1 muy avanzada.<\/p>\n
No obstante, los planes de China no acaban aqu\u00ed. A mediados del pasado mes de marzo varios medios asi\u00e1ticos recogieron una fotograf\u00eda tomada en el centro de investigaci\u00f3n de Huawei en Dongguan, en la provincia de Cant\u00f3n, en la que aparec\u00eda el prototipo de un equipo de litograf\u00eda UVE dise\u00f1ado y fabricado \u00edntegramente en China. Presumiblemente esta m\u00e1quina es similar a las que produce ASML, lo que nos invita a prever que durante 2026 el pa\u00eds liderado por Xi Jinping tendr\u00e1 la capacidad de producir a gran escala chips avanzados.<\/p>\n
Las filtraciones aseguran que a diferencia de las m\u00e1quinas UVE que produce la compa\u00f1\u00eda neerlandesa ASML, este equipo de litograf\u00eda chino emplea una fuente de luz ultravioleta de tipo LDP (descarga inducida por l\u00e1ser), y no de clase LPP (plasma generado por l\u00e1ser). Presumiblemente el desarrollo de esta fuente de emisi\u00f3n de radiaci\u00f3n ultravioleta es el hito que ha permitido a los ingenieros chinos desarrollar una m\u00e1quina que muchos expertos no ve\u00edan posible antes de cinco a\u00f1os en el mejor de los casos.<\/p>\n
Por el momento lo m\u00e1s prudente es que tomemos esta informaci\u00f3n con cautela, pero nos parece lo suficientemente s\u00f3lida para hacernos eco de ella. Un apunte interesante es que sobre el papel la fuente LDP es capaz de generar luz UVE con una longitud de onda de 13,5 nm, por lo que este prototipo chino deber\u00eda ser capaz de competir de t\u00fa a t\u00fa con las m\u00e1quinas de fotolitograf\u00eda UVE de ASML. Adem\u00e1s, las filtraciones sostienen que China iniciar\u00e1 la producci\u00f3n de m\u00e1s m\u00e1quinas para test durante el tercer trimestre de este a\u00f1o con el prop\u00f3sito de lanzarse a la fabricaci\u00f3n a gran escala de estos equipos durante 2026.<\/p>\n
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